右図は65nmノードデバイスのトランジスタへ直接 ICプロービングを行っている実際の図です。
(動画になっているので画像をクリックして是非動画を確認してみてください。) |
|
|
|
|
上記動画のようにナノレベルでプローブを操作して、直接トランジスタへ電気的にプロービングを行います。
左図はN型MOS-FETの4プローブコンタクトのSEM画像。 ゲートプローブはパス-ゲートに繋がれ、4つのnチャンネルトランジスタでシェアされています。Psubプローブは基板コンタクトへ繋がれ、 S/Dプローブは被試験トランジスタのソース、ドレインに繋がれています。
このようにプロービングを行い、パラメータアナライザを使用して測定を行い、下図のようなIVカーブを取得することが可能です。
|
|
|
4ポイントプロービングで取得したIVカーブ事例 |
上のデータはsProberが電気的プロービングを行いIVデータを取得した事例。
n型MOS-FETのVdIdカーブを示している。 |
上図はp型MOS-FETのIVカーブをZyvex sProberで取得した事例 |
|
|
このように、光学顕微鏡ベースのプローバでは光学限界のために不可能になっていたナノレベルの測定も、SEMベースのプローバを用いることで、ダイ上のトランジスタを直接的に解析することが可能になります。
|
|
|